现在在芯片应用范畴，人们已确认进入7纳米年代，跟着本年台积电，三星在5纳米工艺上的打破，剩余的便是3纳米、2纳米以及1纳米工艺了，这一人类半导体工业进军的阶梯，正在被人类一步步的打破。

  现在的台积电刚刚完成了对5nm工艺芯片的量产，而依照台积电的方案，近两年要完成对3纳米工艺的量产，至于2纳米，现在宣扬的时刻则是2024年，尽管存在必定的变数，可是却也阐明台积电在先进制程工艺方面，一直在坚持不断的立异。

  至于后边，那就要说一下1纳米工艺了，台积电在近来的股东大会上现已宣告了公司已在1纳米工艺方面，展开了相关研讨，信任早2024年完成2纳米工艺量产之后，也会取得较大的前进。

  台积电在先进制程工艺方面所取得的成果众所周知，可是假设没有ASML的助推，是很难取得现如今的成果的，尽管ASML的开展也是依托台积电的林本坚推进起来的，可是，现在的高端光刻机商场ASML是肯定的NO.1，现在台积电要想在3纳米、2纳米，乃至是1纳米上取得打破，以现在的局势来看的话，没有ASML是肯定做不到的！

  所以说，台积电在朝向1纳米工艺建议冲击，实际上也是ASML在朝向1纳米范畴进军。而ASML在完成第一代EUV光刻机量产之后，渐渐的开端了在第二代产品上的研发，据悉，依照ASML的方案，第二代EUV光刻机将在2020年完成出货，比较于第一代EUV光刻机，新一代光刻机的功能提高70%。这让芯片制程工艺进入2nm，乃至是1nm都成为了或许。

  台积电要想完成1纳米工艺的量产，缺少了ASML的1纳米工艺光刻机，那台积电就不或许完成。不过，以现在在全球制程工艺方面的研发进展来说，ASML离开了台积电的巨大需求，基本上也就处于“英雄无用武之地”了。所以，这两家企业的携手并进才是全球半导体工业加快速度进行开展的要害。回来搜狐，检查更加多