二维范德瓦尔斯异质结由不同性质的二维晶体组成，是新一代2D电子设备的柱石。这些异质结构中界面的构成不可避免地破坏了块体资料的对称性和结构连续性，导致原子重排和新的电子结构的呈现。基于此，钟志诚团队提出了“自发曲折”模型，用以解说二维异质结构中原子重排导致的面外崎岖。这种曲折是由堆叠能量和变形能量之间的竞赛驱动的，与平面内应变无关。经过深度势能辅佐的分子动力学模仿，他们观察到石墨烯/氮化硼异质结中明显的面外崎岖（3.8 Å），并构成了莫尔图画。在莫尔图画的畴和畴界中，面外曲折的曲率表现出相反的符号，导致了畴的扩张和畴界的紧缩。这种曲率在热涨落和有转角的情况下仍就保持稳定。核算标明二维异质结的自发曲折对外加应力灵敏，会影响其机械性质，可能在量子模仿、光电子设备和低冲突连接器等使用中发挥作用。

  我国科大姑苏高级研讨院博士后高于翔和邓凤麟为论文榜首作者，该作业得到国家要点研制方案、国家自然科学基金、我国科学院前沿科学要点研讨方案等赞助。