合肥微标准物质科学国家研讨中心王晓平教授和罗毅教授研讨团队开展了光刻胶软掩膜蜡纸印刷技能，成功完成了多种描摹三维超结构的可控制备，一起完成了非平坦和曲面衬底上微纳米结构的自在构建。相关研讨成果近来以“Utilization of Resist Stencil Lithography for Multidimensional Fabrication on a Curved Surface”

  传统的自上而下微纳加工手法（包含深紫外曝光、电子束曝光以及X射线曝光等技能）在现代微电子工业和光学器材的开展中发挥了及其重要的效果，但受限于这些技能本征的工艺特征，无法到达日益火急的非平面加工要求。团队使用水解搬运的方法将带有纳米图画的光刻胶薄膜作为蜡纸印刷术掩膜，使用薄膜的柔性保形特征包裹在曲面和非平坦衬底之上，辅以图形搬运手法，成功完成了具有多维度的微纳米结构，特别是三维波浪形超结构的可控制备。这种新方法承继了传统微纳米曝光技能在大通量、高分辨率等方面的优势，极大拓宽了这些传统技能的功用，在超资料、曲面光栅、局域场器材以及柔性器材等方面展示出重要使用远景。

  该研讨团队在开展非传统微纳米加工技能等方面积累了杰出的作业根底和技能储备。在前期的作业中，使用水解搬运技能成功制备了外表超平坦的金属微纳腔[Opt. Express 21, 32417 (2013)]；使用可取舍负胶掩膜技能成功完成了小于20纳米标准的金属结构的可控加工[AIP Advances 5, 117216 (2015)]；使用剥离技能结合单原子堆积技能，成功完成了宽度小于1纳米的纳米空隙的大规模、高密度制备[Opt. Express 24, 20808 (2016)；ACS Appl. Mater. Interfaces 10 (23), 20189 (2018)]。

  论文的一起榜首作者为合肥微标准物质科学国家试验中心特任副研讨员蔡洪冰和博士后孟秋实，通讯作者为王晓平教授和罗毅教授。该作业得到了科技部、国家自然科学基金委、中科院和教育部等要害项目的赞助。